碳化硅薄膜在低辐射玻璃中的应用

近年来，可钢化的 Low-E玻璃 在国内得到了广泛推广，但由于现有的Low-E玻璃耐机械划伤能力不够，高温抗氧化能力不够强，因此整体质量不够高。由于产品成本较高，亟待解决上述问题。

在大面积镀膜玻璃领域，SiNx介质薄膜的应用日益广泛。 SiNx具有良好的耐腐蚀性、抗机械划伤性和高温抗氧化性。因此采用SiNx作为外保护层，目前钢化Low-E玻璃的外层也是SiNx材料。低辐射玻璃的应用进入市场，使得低辐射玻璃的应用领域更加广泛。然而，Low-E玻璃在民用建筑中的应用并不广泛。重要的问题是低成本。降低Low-E玻璃成本将成为普及Low-E玻璃的重要课题，也将成为各大 浮法玻璃 加工企业关注的热点话题。 Low-e玻璃的成本主要是由于生产成本较高。解决生产成本的有效途径是提高生产效率。目前多数企业通过提高镀膜机中平板玻璃的速度、增大溅射靶材的功率 来提高效率、降低成本。在保证Low-E玻璃膜层厚度的情况下，平板玻璃走得越快，相应的溅射靶材的功率就越高。 Low-E玻璃膜层中的介质层SiNx的厚度很厚。随着硅铝靶材功率的增大，浮渣问题也越来越严重。根本原因是受到硅铝靶材溅射速率的限制。

Low-e玻璃的特性

低辐射玻璃对380~780nm波长范围内的可见光具有较高的透过率，有利于室内采光。对波长780~2500nm的太阳近红外辐射具有较高的反射率，对中红外辐射也具有较高的反射率，并且具有低辐射率的特点，即低辐射膜表面的平板玻璃的辐射热较低。